In-Situ Substrate Preclean 基片預(yù)清洗

PC

 Ion Beam Modification of Material & Surface Properties 離子束材料和表面改性
 - Surface polishing or smoothing 表面拋光
 - Surface nano structures and texturing 改變納米結(jié)構(gòu)和紋理
 - Ion figuring and enhancement 離子刻蝕成形
 - Ion trimming and tuning 離子表面優(yōu)化
 - Surface activated bonding

IBSM




SAB

 Ion Beam Assisted Deposition 離子束輔助沉積

IBAD

 Ion Beam Etching 離子蝕刻
 - Reactive Ion Beam Etching 反應(yīng)離子蝕刻
 - Chemically Assisted Ion Beam Etching 化學(xué)輔助離子蝕刻

IBE
RIBE
CAIBE

 Ion Beam Sputter Deposition 磁控濺射輔助沉積
 - Reactive Ion Beam Sputter Deposition 反應(yīng)離子磁控濺射沉積
 - Biased Target Ion Beam Sputter Deposition 偏壓離子束磁控濺射

IBSD
RIBSD
BTIBSD

 Direct Deposition 直接沉積
 - Hard and functional coatings 硬質(zhì)和功能膜

DD

蝕刻晶元
刻蝕均勻性和臨界幾何尺寸

MEMS, 傳感器和顯示器
表面優(yōu)化
 

精密光學(xué)
薄膜致密穩(wěn)定, 折射率優(yōu)化, 吸收率低

磁數(shù)據(jù)存儲
金屬和介質(zhì)多層堆疊中納米特性的各向異性和均勻腐蝕