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Aridus II膜去溶霧化系統(tǒng)

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所在地: 北京
有效期至: 2011-08-15 [已過期]
最后更新: 2007-06-21 16:03
瀏覽次數(shù): 24332
 
公司基本資料信息
詳細(xì)說明
Aridus II膜去溶霧化系統(tǒng)是為各種ICP-MS專門研制的、專業(yè)進(jìn)樣系統(tǒng)附件,具有如下特性: 提高ICP-MS的靈敏度10倍以上 顯著降低氧化物和氫化物水平 使ICP-MS可以直接分析有機(jī)溶劑樣品(如甲醇、乙醇等) 大大改善信號的穩(wěn)定性 Aridus II膜去溶霧化系統(tǒng)采用的低流量、Aspire微量霧化器,只需1mL的樣品就能分析所有的元素。同時Aridus II進(jìn)樣系統(tǒng)全部采用PFA惰性材料,可應(yīng)用于含HF酸的樣品。獨(dú)特的廢液反抽技術(shù)進(jìn)一步提高了穩(wěn)定性。 Aridus II的工作原理: 樣品經(jīng)霧化器霧化成氣溶膠后進(jìn)入120℃的霧化室,樣品氣溶膠保持在蒸汽狀態(tài)。從霧化室出來的樣品氣溶膠進(jìn)入加熱的“隔膜去溶”裝置,利用“膜滲透”技術(shù),分離樣品氣溶膠中的溶劑,利用一股反向的氬“穿透氣”帶走從膜滲透出來的溶劑蒸汽。從而使進(jìn)入ICP的樣品氣幾乎不存在溶劑部分,大大提高了分析的靈敏度、減少溶劑所帶來的氧化物、氫化物干擾和溶劑對ICP的影響。 優(yōu)點(diǎn): 顯著減小ICP-MS的干擾: Aridus II膜去溶霧化系統(tǒng)能有效去除樣品溶劑蒸汽,顯著地減少諸如來自水中的氧化物、氫化物的干擾,右圖比較了標(biāo)準(zhǔn)氣動霧化器與Aridus系統(tǒng)的CeO/Ce 比率,該CeO/Ce比率從3% 減少為0.03%。其他水基的干擾ArH +(39)、CO2+(44)、ArO+(56)有明顯的減少,從而使Li、Na、Mg、K、Ca、Fe的檢出限得到明顯改善。 配備Aridus II的ICP-MS檢出限:(在非冷焰的條件下,ELAN6000型ICP-MS) Element m/z Detection Limit (ng/L) Element m/z Detection Limit (ng/L) Li 7 0.4 K 39 8 Na 23 15 Ca 44 300 Mg 24 6 Fe 56 10 卓越的信號穩(wěn)定性: Aridus II的7小時信號穩(wěn)定性:RSD<1%(在100%的甲醇溶液中加1mg/L的標(biāo)準(zhǔn)) http://www.labtechgroup.com/chinese/product/fittings/icpms/04.htm
更多>本企業(yè)其它產(chǎn)品
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