RTP快速退火爐的詳細(xì)描述：

該RTP快速退火爐采用：

■多重?zé)艄茉O(shè)計(jì)以保證溫度均勻
■ 實(shí)時(shí)閉環(huán)溫度控制方式
■ 實(shí)時(shí)燈絲電流監(jiān)測(cè)以保證工藝穩(wěn)定可靠性
■ 安全監(jiān)測(cè)，包括熱偶測(cè)溫檢測(cè)、過熱檢測(cè)、燈絲電流檢測(cè)
■ 用戶操作界面，使用非常簡(jiǎn)便
■ 軟件全自動(dòng)控制工藝過程，操作簡(jiǎn)單，包括用戶分級(jí)使用權(quán)限管理
■ 菜單編輯、工藝數(shù)據(jù)記錄/查找、報(bào)警/報(bào)錯(cuò)、用戶狀態(tài)等功能

RTP快速退火爐的主要技術(shù)參數(shù)如下
加熱元件：鹵素電極；
電極數(shù)量：12支；
整機(jī)功率：7.2KW；
升溫速率：200℃/Second；
降溫速率：30秒(1000℃
→ 400℃)；
最高溫度：1100℃；
溫度精度：+/-
1℃；
最大樣品尺寸：4英寸；
氣氛環(huán)境：真空、氣體（氮?dú)?、氬氣、氧氣）、空氣?br /> 真空系統(tǒng)：可根據(jù)實(shí)際需要選配無油機(jī)型泵或者分子泵

應(yīng)用領(lǐng)域：
-快速熱退火
-
快速熱氧化
- 快速熱氮化
- 硅化
- 擴(kuò)散
- 化合物半導(dǎo)體退火
- 離子注入后退火
- 電極合金化
-
晶向化和堅(jiān)化
- 合金熔點(diǎn)分析;
- 薄膜沉積; 等等…